纳米级DF系列扩散器专用过滤器_低压款气体过滤器

恒歌纳米级DF系列扩散器专用过滤器专为半导体制程中真空腔体快速放气应用进行设计。它结合了扩散器的气体流动特性和高效过滤器的颗粒拦截特性，能够有效减少工艺腔体排气时的湍流，确保气体的平稳流动。这种过滤器的过滤精度高达0.003μm，能够有效防止气流吹起颗粒或硅片，从而保障工艺室环境的稳定。

产品特点

●  高效过滤：采用316L不锈钢粉末烧结介质，过滤精度可达0.003μm，有效拦截微小颗粒。

●  全316L不锈钢结构：坚固耐用，耐高温、耐高压、耐腐蚀，适用于多种工艺气体。

●  减少湍流：独特的设计有效减少工艺腔体排气时的湍流，防止气流吹起颗粒或硅片。

●  洁净室制造：在洁净室环境中制造、测试和包装，确保产品的高洁净度。

●  高可靠性：通过100%完整性测试和氨气泄露检测，确保产品的高质量和可靠性。

●  定制化设计：可根据安装空间进行灵活设计，适配各种复杂的安装环境

应用领域

DF系列扩散器专用过滤器广泛应用于半导体制造中的各种工艺环节，如光刻、蚀刻、离子注入等。它能够有效去除气体中的杂质，确保气体的高纯度，从而提高芯片的良品率和生产效率。此外，它还适用于其他需要高纯度气体的工业领域，如电子制造、化工等。

在半导体制程中，DF 系列扩散器应用气体过滤器主要有以下原因：

●  防止颗粒污染：半导体制造对环境洁净度要求极高，哪怕微小颗粒也可能导致芯片短路、断路或其他性能缺陷。气体过滤器能拦截 0.003um 及以上的颗粒，确保进入真空腔体的气体纯净，防止颗粒在工艺过程中附着在硅片或其他关键部件上，提高产品合格率。

●  避免气体杂质影响工艺：半导体制程中的光刻、蚀刻等工艺对气体纯度要求严格。过滤器可去除气体中的杂质，如水分、油分、金属离子等，避免这些杂质与工艺气体发生化学反应，或在高温、高压等条件下对硅片表面造成腐蚀、污染，保证工艺的一致性和稳定性。

●  保护设备：洁净的气体可减少对扩散器及其他相关设备内部组件的磨损和腐蚀，延长设备使用寿命，降低维护成本。如果气体中的颗粒或杂质进入设备内部，可能会堵塞气体通道、磨损密封件，影响设备的正常运行。

●  满足工艺精度要求：随着半导体器件尺寸不断缩小，工艺精度要求越来越高。使用气体过滤器能提供稳定、纯净的气体环境，满足高精度工艺要求，确保半导体产品的性能和质量达到标准。