薄膜沉积设备过滤器丨CVD化学气相沉积供气系统过滤器

薄膜沉积设备(如化学气相沉积CVD和物理气相沉积PVD)是半导体制造中用于在晶圆表面沉积薄层材料的关键设备。这些设备依赖高纯工艺气体(如硅烷、氨气)在真空或高压环境下发生反应，形成导电或绝缘层。沉积过程的均匀性和纯度直接影响器件性能，例如在存储芯片或处理器制造中，薄膜厚度偏差仅允许纳米级误差。设备通常包括真空室、气体注入系统和控制系统，要求气体无污染以避免沉积缺陷。

为什么使用过滤器

薄膜沉积过程中，气体若含有微粒或烃类污染物，会导致薄膜孔洞、剥落或电性失效。例如，在CVD工艺中，颗粒物可能成为成核点，引起不均匀沉积;在PVD中，污染物可能干扰溅射靶材的纯度。过滤器能消除湍流和颗粒携带问题，确保气流平稳，防止工艺腔体污染。恒歌KF系列真空系统气体过滤器专为此设计，通过减少排气湍流，提升产品产量和设备吞吐量。

过滤器介绍

恒歌的KF系列真空系统气体过滤器专为薄膜沉积设备优化，适用于CVD、PVD等真空室的气体回填和通风。该过滤器采用全316L不锈钢结构，过滤精度达0.003μm，支持快速清洁的气流传输。文档指出，它在规范安装下可确保3.000.000次循环完整性，兼容多种工艺气体，如惰性气体和特种气体。其设计注重低湍流，避免气体吹起颗粒影响沉积均匀性。

过滤器特点

● 耐压耐温：整体316L不锈钢构造，耐高温、耐腐蚀，工作压力覆盖真空至高压环境，温度适应-28°C至+482°C。

● 高效过滤：超高颗粒拦截率，通过100%完整性测试和氦气检漏测试，确保气体纯净。

● 流量性能：流量压差曲线显示，在进气压力kPa下保持低阻损，如Z01K-00076型号在23°C时流量稳定。外形尺寸紧凑，易于安装于装载锁或传输腔体。

● 定制化：可定制不同流量和尺寸，适配各种沉积设备接口。

● 它适用于短时间大流量气体传递，减少维护需求。

产品应用

KF系列主要用于薄膜沉积设备的真空系统，如CVD反应器的气体注入管线、PVD溅射机的气路保护，以及半导体厂的工艺腔体通风。在航空航天和新能源领域，它用于涂层设备的气体净化，提高薄膜附着力。在MEMS制造中，该过滤器帮助实现纳米级沉积精度，降低缺陷率。应用场景还包括光伏电池的沉积环节，保障长期可靠性。