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气体纯度是半导体制造高良率的关键支撑

作者:小编 发布时间:2024-08-12 11:32:34人气: 来源:金属烧结过滤器厂家

      高纯气体,半导体行业八大核心材料之一,是继硅片之后,半导体制造过程中第二大材料。纵观半导体制造整个过程,如干蚀刻、氧化、离子布植、薄膜沉积等环节,高纯气体都不可或缺。随着半导体制程技术不断向纳米级乃至原子级迈进,半导体制造过程中的气体纯度要求也达到了前所未有的高度。

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一、半导体制造的气体挑战

      半导体制造过程复杂而精细,涉及约450道工艺步骤,这些工艺中约需使用50种不同种类的气体,大致可分为大宗气体和特种气体两大类。其中,特种气体的纯度直接关系到晶圆和电子元器件的质量、性能、集成度、技术指标以及良品率。

      在3nm乃至更先进的制程下,对气体中污染粒子的控制已精确到万亿分之一(ppt)级别,任何细微的杂质都可能引发电子迁移率下降、漏电流增加等问题,严重影响产品的良品率和可靠性。


二、气体纯度的极端要求

      随着半导体技术的不断突破,对电子特种气体的纯度要求也愈发严苛。气体纯度通常需达到6N级(99.9999%)甚至更高,且对气体质量的稳定性也提出了更为苛刻的要求。

      从28nm到7nm,产品的金属杂质含量需下降百倍,污染粒子的体积须缩小四倍。这种对纯度的极致追求,不仅是为了满足当前先进制程的需求,更是为未来更精密的制造工艺奠定基础。


三、超纯气体过滤器的关键技术

      面对半导体行业对气体纯度的极高要求,超纯气体过滤器成为了不可或缺的技术保障。超纯气体过滤器需具备高效、可靠、耐腐蚀、抗自燃等多重特性,以应对工艺气体的剧毒性、腐蚀性和活性。

      当前,市场上已研发出多款高精度的气体过滤产品,如能提供3nm过滤精度的产品,确保电子特气的纯度达到9N级别,满足不同工艺阶段的超高要求。

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四、过滤方案的选择与应用

      在选择超纯气体过滤器时,需充分考虑气体的特性和应用场景。例如,对于腐蚀性气体如HCl(氯化氢)、BF3(氟化硼)等,需采用耐腐蚀材料制成的过滤器;对于易燃易爆气体如H2(氢气)、PH3(磷化氢)等,则需设计防爆安全机制。

      此外,过滤器的安装与维护也需遵循严格的操作规程,以确保其长期稳定运行。


五、过滤产品对半导体产业的影响

      超纯气体过滤器不仅直接决定了半导体产品的良品率和可靠性,还对整个产业链的健康发展起着至关重要的作用。一方面,高效的过滤系统能够降低废品率,提高生产效率,从而为企业带来显著的经济效益;另一方面,稳定的气体供应和纯净的生产环境也是吸引国际客户、提升品牌竞争力的重要因素。


      随着半导体技术的不断进步,对气体纯度的要求将持续提升,未来,超纯气体过滤器将向更高精度、更广泛适用性、更智能化方向发展。半导体超纯气体过滤器作为先导性产业的关键技术之一,正引领着半导体制造迈向更加精密、高效、可靠的未来。


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